在半导体、光伏及高端制造领域，气体纯度直接决定产品良率与性能。随着制程工艺向纳米级演进，对超纯气体、高纯气体及电子特气中的颗粒、金属离子及分子污染物的控制要求已提升至ppb乃至ppt级别。飞潮（上海）新材料股份有限公司（以下简称“飞潮新材Feature-Tec”）深耕过滤、分离与纯化领域20余年，以工艺匹配能力为核心，构建从滤材研发到系统集成的完整能力。
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企业概况与技术定位
过滤分离领域20余年技术积累
飞潮新材Feature-Tec集研发、制造与检测验证于一体，服务客户覆盖半导体、FPD、生物制药、核电、锂电、汽车、食品饮料、石油化工、水处理、机械与设备加工、海洋装备、可再生能源等领域。
核心优势在于“耐腐蚀材料体系+高精度过滤+工艺级匹配设计”的一体化方案。公司拥有CNAS认可实验室，可进行包括1.5nm颗粒过滤效率测试（参考SEMI F57/F38）在内的严苛验证。
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核心产品：FG10/15超纯气体过滤器
1.5nm精度·半导体工艺气体过滤
FG10/15超纯气体过滤器专为电子级气体超纯净化开发设计，过滤精度可达1.5nm，设备结构紧凑，强度高，与所有类别的半导体工艺气体具有良好的兼容性，推荐用于惰性和反应性气体。
产品特点
316L不锈钢电子级抛光外壳，高通量低压损；
优异的化学相容性，耐高温、高压；
100％完整性测试，100％氦气泄漏测试；
洁净室制造和包装。
典型应用
晶圆制程PVD、CVD、刻蚀、离子注入等工艺气体过滤。
技术参数
参数项 规格
滤材 聚四氟乙烯（PTFE）
骨架与端盖 可熔性聚四氟乙烯（PFA）
O型圈 全氟醚橡胶（FFKM）
壳体方案一 低硫316L
壳体方案二 超纯316L（VAR/VIM+VAR）
最高使用温度 120℃
外表面处理 Raμ6.<m
内表面处理 电解抛光，Ra<0.2μm
颗粒拦截粒径 ≥1.5nm
颗粒拦截效率 ≥99.9999999%（9 LRV@30 slpm）
最大进口压力 207bar@23℃
最大正向压差 4bar@23℃
最大反向压差 0.7bar@23℃
下游颗粒释放 <1 particle/ft³ @≥0.1μm
下游挥发物 <10 ppb moisture
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应用场景与行业覆盖
半导体·氟化工·多行业过滤分离
飞潮新材的过滤分离方案已成功应用于以下场景：
半导体与电子级化学品：电子级氟化物与高纯HF过滤，氢氟酸精制、氟盐结晶过滤、氟聚合物母液处理等；
其他行业：催化剂过滤回收、雷尼镍电磁过滤、纳米浆料浓缩洗涤、胺液脱硫过滤、活性炭脱色过滤、硅钢酸洗、回注水过滤、粉尘综合治理及废硫酸浓缩等。
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选型参考
适配极端工况与高洁净要求场景
飞潮新材的工艺级定制与耐腐蚀方案，适用于面临极端工况或对过滤精度有较高要求的企业，尤其适合半导体晶圆制程、氟化工强腐蚀环境等场景。企业可根据自身的气体种类、流量需求、洁净度标准等具体条件，结合飞潮新材的技术团队进行方案匹配。
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